Herald of Technological University Herald of Technological University ВЕСТНИК ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО УНИВЕРСИТЕТА 3034-4689 61613 ПРИКЛАДНАЯ ХИМИЯ И ХИМИЧЕСКАЯ ТЕХНОЛОГИЯ ПРИКЛАДНАЯ ХИМИЯ И ХИМИЧЕСКАЯ ТЕХНОЛОГИЯ МОДЕЛИРОВАНИЕ ГАЗОДИНАМИЧЕСКОГО ИСТЕЧЕНИЯ СТРУИ АРГОН-СИЛАНОВОЙ ПЛАЗМЫ В ЗАТОПЛЕННОЕ ПРОСТРАНСТВО МОДЕЛИРОВАНИЕ ГАЗОДИНАМИЧЕСКОГО ИСТЕЧЕНИЯ СТРУИ АРГОН-СИЛАНОВОЙ ПЛАЗМЫ В ЗАТОПЛЕННОЕ ПРОСТРАНСТВО Абдуллин И Ш Абдуллин И Ш abdulin_i@kstu.ru Желтухин В С Желтухин В С vzheltukhin@gmail.com Струнин В И Струнин В И strunin@omsu.ru Шемахин А Ю Шемахин А Ю shemakhin@gmail.com Худайбергенов Г Ж Худайбергенов Г Ж hudayber@omsu.ru Хубатхузин А А Хубатхузин А А al_kstu@mail.ru КНИТУ ru КНИТУ ru КФУ ru КФУ ru ОмГУ им. Ф.М. Достоевского ru ОмГУ им. Ф.М. Достоевского ru КФУ ru КФУ ru ОмГУ им. Ф.М. Достоевского ru ОмГУ им. Ф.М. Достоевского ru КНИТУ ru КНИТУ ru 01 08 2025 01 08 2025 16 19 95 98 19 04 2023 https://vestniktu.ru/en/nauka/article/61613/view

В работе описана математическая модель струйного течения ВЧ-плазмы при давлении 0.1-10 Па и числах Кнудсена 0.3 ≤ Kn ≤ 3 для несущего газа. Модель построена на основе статистического подхода для нейтральной компоненты ВЧ-плазмы c учетом влияния распределенного по объему источника тепла. Приведены результаты расчета течения нейтральной компоненты ВЧ-плазмы при наличии в струе образца.

A mathematical model of the RF plasma flow at a pressure of 0.1-10 Pa for Knudsen 0.3 ≤ Kn ≤ 3 is described. The model is based on the statistical approach of the neutral component of the RF plasma. The results of the plasma flow calculation with a specimen is described.

 аргон-силановая плазма высокочастотный разряд осаждение тонких пленок аморфный кремний струйное течение математическое моделирование silane argon plasma RF glow discharge thin films deposition amorphous silicon jet flow mathematical modeling аргон-силановая плазма высокочастотный разряд осаждение тонких пленок аморфный кремний струйное течение математическое моделирование silane argon plasma RF glow discharge thin films deposition amorphous silicon jet flow mathematical modeling

Шарафутдинов Р.Г., Бакланов М.Р., Аюпов Б.М. и др.// ЖТФ, Т.65, в.1, стр.181-185 (1995). Sharafutdinov R.G., Baklanov M.R., Ayupov B.M. i dr.// ZhTF, T.65, v.1, str.181-185 (1995). M.C.M. van de Sanden, R.J. Severens et al. // J. Appl. Phys. Vol. 84 (5) pp. 2426-2433 (1998) M.C.M. van de Sanden, R.J. Severens et al. // J. Appl. Phys. Vol. 84 (5) pp. 2426-2433 (1998) Струнин В.И., Ляхов А.А., Худайбергенов Г.Ж., Шкуркин В.В.// ЖТФ, том 72, вып.6, 2002, стр. 109-114 Strunin V.I., Lyahov A.A., Hudaybergenov G.Zh., Shkurkin V.V.// ZhTF, tom 72, vyp.6, 2002, str. 109-114 Абдуллин И.Ш. Модификация нанослоев в высокочастотной плазме пониженного давления: монография [Текст] / И.Ш.Абдуллин, В.С.Желтухин, И.Р.Сагбиев, М.Ф.Шаехов.- Казань: Изд-во Казан. гос. технол. ун-та, 2007.- 356 с. Abdullin I.Sh. Modifikaciya nanosloev v vysokochastotnoy plazme ponizhennogo davleniya: monografiya [Tekst] / I.Sh.Abdullin, V.S.Zheltuhin, I.R.Sagbiev, M.F.Shaehov.- Kazan': Izd-vo Kazan. gos. tehnol. un-ta, 2007.- 356 s. Белоцерковский О.М. Численное моделирование в механике сплошных сред - Москва «Наука» Главная редакция физико-математической литературы. 1984. - 518 с. Belocerkovskiy O.M. Chislennoe modelirovanie v mehanike sploshnyh sred - Moskva «Nauka» Glavnaya redakciya fiziko-matematicheskoy literatury. 1984. - 518 s. Берд Г.А. Молекулярная газовая динамика. Москва, 1981. Berd G.A. Molekulyarnaya gazovaya dinamika. Moskva, 1981. Печатников Ю.М. Современные методы расчета характеристик вакуумных агрегатов для среднего вакуума (Обзор) // Вак. техн. и технол.- 2002.- Т.12, №4. Pechatnikov Yu.M. Sovremennye metody rascheta harakteristik vakuumnyh agregatov dlya srednego vakuuma (Obzor) // Vak. tehn. i tehnol.- 2002.- T.12, №4. В.Г. Дулов, Г.А. Лукьянов. Газодинамика процессов истечения // Москва «Наука», 1984 г. - 234 с. V.G. Dulov, G.A. Luk'yanov. Gazodinamika processov istecheniya // Moskva «Nauka», 1984 g. - 234 s. Печатников Ю.М. Физические явления и процессы переходного течения разреженного газа // Прикладная физика. 2004. № 2. С.19-25 Pechatnikov Yu.M. Fizicheskie yavleniya i processy perehodnogo techeniya razrezhennogo gaza // Prikladnaya fizika. 2004. № 2. S.19-25 А.Ю.Шемахин, В.С.Желтухин. Расчет газодинамики струй ВЧ плазмы пониженного давления.// Ученые записки Казанского университета, Т.153, кн.4, 2011 г. - с.135-142 A.Yu.Shemahin, V.S.Zheltuhin. Raschet gazodinamiki struy VCh plazmy ponizhennogo davleniya.// Uchenye zapiski Kazanskogo universiteta, T.153, kn.4, 2011 g. - s.135-142 Пат. 2188878 МПК 7 C 23 C 16/24, C 16/50, H 01 L 21/205. Способ нанесения пленок аморфного кремния и устройство для его осуществления / Баранова Л.В., Струнин В.И., Худайбергенов Г.Ж. и др. - № 2000119336/28; Заявлено 19.07.2000; Опубл.10.09.2002 Бюл. №25 - 5 с.: ил. Pat. 2188878 MPK 7 C 23 C 16/24, C 16/50, H 01 L 21/205. Sposob naneseniya plenok amorfnogo kremniya i ustroystvo dlya ego osuschestvleniya / Baranova L.V., Strunin V.I., Hudaybergenov G.Zh. i dr. - № 2000119336/28; Zayavleno 19.07.2000; Opubl.10.09.2002 Byul. №25 - 5 s.: il.