00946naa#a2200205#i#4500001001500000005001700015011001400032100004100046101000800087102000700095200017400102210015700276215001000433608004500443675014700488700002800635700003200663700002800695856001700723RU\\bibl\6261920250930220922.2##a3034-4689##a20250801b2025####ek#y0rusy0150####ca0#aRUS##aRU1#aВОЗДУШНОЕ ОХЛАЖДЕНИЕ ИНДУКЦИОННОГО ВЧ-ПЛАЗМАТРОНА ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯeЖурнальная статья1#aКазаньcКазанский национальный исследовательский технологический университетd2025##a2 с.##aЖурнальная статья2local##aТеоретические основы процессов, влияющие факторы, условия обработки. 621.79.01zRUS#1aЖелонкинgЯ О#1aХубатхузинgА А#1aАбдуллинgИ Ш4#avestniktu.ru