Выявлен новый источник возмущений, вносимых в плазму зондом Ленгмюра. Возмущение возникает при использовании неизолированного металлического экрана, окружающего зондодержатель. При контакте экрана с плазмой, потенциал пространства которой в общем случае неоднороден, в экран отбирается часть плазменного тока, которая уменьшает плазменный ток (газового разряда или амбиполярной диффузии) и снижает степень ионизации плазмы. При этом экран уподобляется короткозамкнутому, несимметричному двойному макро-зонду. Понимание сути механизма нового возмущения дало путь к его минимизации, состоящий в необходимости электрически изолировать экран от плазмы.
зонд Ленгмюра, плазма, зондовые возмущения, ВЧ наводки, проводящее тело, Langmuir probe, plasma, probe perturbations, RF interference, conducting body
1. В.Л. Грановский, Электрический ток в газе, т.Общие вопросы электродинамики газов. ГИТТЛ, Москва-Ленинград, 1952, С. 253-282.
2. V.A. Godyak, V.I. Demidov, J. Phys. D: Appl. Phys., 44, paper No. 233001 (2011).
3. V.A. Godyak, B.M. Alexandrovich, V.I. Kolobov, Phys. Rev. E, 64, paper No. 026406 (2001).
4. V.A. Godyak, R.B. Piejak, B.M. Alexandrovich, Plasma Sources: Science and Technology, 11, (2002), P. 525-543.
5. П.П. Кулик, В.А. Рябый, Н.В. Ермохин, Неидеальная плазма. ЭНЕРГОАТОМИЗДАТ, Москва, 1984, С. 75-77.
6. В.Н. Бойных, Б.Г. Бородач, В.В. Воробьёв, И.С. Граф, Л. Ю. Захарова, С. О. Изидинов, М.И. Кондаков, В.А. Рябый, A.A. Спорыхин, А.В. Стебунов, Применение плазмы и плазмохимических технологий для промышленного производства полупроводников.- Обзор Министерства электротехники СССР, серия 05, выпуск 3 (13). ИНФОРМЭЛЕКТРО, Москва, 1987, С. 11-13.
7. N.A. Iermolova, A.V. Maliarov, V.A. Riaby, V.P. Savinov, A.A. Sporykhin, L.N. Scheiko, V.G. Yakunin, XX International Conference on Phenomena in Ionized Gases (Il Ciocco, Italy, 1991). Invited Papers. Felici Editore, Pisa, 1991. Volume 1. P. 325-326.
8. A.F. Alexandrov, V.A. Riaby, V.P. Savinov, V.G. Yakunin, XI International Conference on Gas Discharges and their Applications (Tokyo, September 1995). Invited Papers. Tokyo, 1995. Part 1. P. 498-502.
9. H.-J. Lee, V.A. Riaby, V.Yu. Plaksin, International Conference on Advanced Technologies (Cheju, 2006). Invited Papers. Cheju National University, Cheju, 2006. P.11-20.
10. H.-J. Lee, Y.-S. Mok, V.Yu. Plaksin, V.A. Riaby, Международный патент WO2007/114556 (2007).
11. Гайнуллин, А.Р. Герке, А.П. Кирпичников Измерение параметров низкотемпературной плазмы высокочастотного разряда магнитным зондом // Вестник Казанского технологического университета. - Казань: КГТУ, 2007. - №3-4. - С. 130-134.
12. Р.Н. Гайнуллин, А.Р. Герке, А.П. Кирпичников Расчёт параметров низкотемпературной плазмы высокочастотного индукционного разряда // Вестник Казанского технологического университета. - Казань: КГТУ, 2007. - №3-4. - С. 154-160
